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可以根據客戶要求提供平面圓靶，方靶，臺階靶、旋轉靶均可加工、顆粒、網、箔、粉末、坩堝、異形件定制。鼎偉新材料提供鍍膜靶材：銅、鋁、鉻、鎢、鉬、鎳、鉿..
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高純鉻靶的目標雜質控制：如果靶中的夾雜物數量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導致互連線短路或斷開，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大..
詳情>>高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，目標材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材，細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高..
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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高純金屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技..
詳情>>ABOUT US
公司團隊服務鍍膜領域十二年，對各材料的靶材研發、設計、制造、擁有成熟的經驗；公司與國內外各行業科研院所長期合作，為眾多國內外工程項目提供了優質的靶材產品；公司注重用戶實踐與產品研發，取得多項專利和研發成果。
公司2000平方米加工制造中心，先進的加工設備，優化的加工工藝，為客戶快速供貨；公司實行計劃管理，注重過程控制，成品出廠100%檢驗，為客戶制造國際品質的產品；公司根據客戶的需求，承接靶材、非標的設計和制造等服務。
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